ネットワーク型共同研究拠点を支える 人・環境と物質をつなぐイノベーション創出ダイナミック・アライアンス 研究者データベース

半導体製造における極端紫外光リソグラフィ、粒子線ガン治療等、今後電離放射線領域にある量子ビームの利用が大きく展開して行くことが予想されます。例えば、次世代半導体リソグラフィプロセスではサブ10nm（シングルナノ）の解像度での大量生産の実現を目指して研究開発が進められています。サブ10nmでの高感度加工の実現のためには、量子ビームがナノメータースケールで誘起する化学反応の解明と制御が必須です。

The industrial application of quantum beam will rapidly expand in the field such as high-volume production of semiconductor devices. Cancer therapy using ionizing radiation has also attracted much attention. For example, in the semiconductor industry, the research and development of lithography technologies have been pursued toward the high-volume production of semiconductor devices with sub-10 nm (single nano) resolution. The clarification of chemical reactions induced in nanometer scale regions is essential for the realization of single nano fabrication with high throughput.

量子ビーム物質科学研究分野では最先端の量子ビーム（電子線、極端紫外光、レーザー、放射光、X線、ガンマ線、イオンビーム）を利用して、量子ビームが物質に引き起こす化学反応と反応場の研究を行っています。通常状態だけでなく、高温高圧状態や超臨界状態といった極限状態下においても量子ビーム誘起反応過程の測定を行い、基礎過程を解明するとともに、量子ビームによる物質へのエネルギー付与から、化学反応を経て、機能発現に至るまでの化学反応システムの解明し、得られた知見から新規化学反応システムを構築することを目標とします。

In Department of Beam Materials Science, the radiation-induced chemical reaction and reaction field have been investigated using state-of-the-art quantum beam (electron, extreme ultraviolet radiation, laser, synchrotron radiation, X-ray, gamma ray, ion beam). We have studied the chemical reaction system from the energy deposition on materials to the expression of material function. The target of our study is to design a novel chemical reaction system on the basis of these fundamental studies.